原標(biāo)題：BX53M正置顯微鏡不同觀(guān)察下的圖案美
正置顯微鏡是金相顯微鏡中重要檢測(cè)顯微鏡,它主要用于對(duì)材料顯微組織、斷口組織等進(jìn)行分析研究。奧林巴斯正置顯微鏡BX53M,是專(zhuān)門(mén)為工業(yè)和材料學(xué)而設(shè)計(jì)的顯微鏡,也是正置顯微鏡中的佼佼者,很多高端復(fù)雜度高的工業(yè)行業(yè)都用BX53M來(lái)進(jìn)行檢測(cè)。在BX53M的鏡頭下,能清晰地看到不同材料下的微觀(guān)組織,在檢測(cè)過(guò)程中,也讓我們看到了金屬等材料的另外一種驚嘆微觀(guān)美。
BX53M是一臺(tái)非常 的正置顯微鏡,它擁有6種不同的觀(guān)察模式,不同的觀(guān)察方式使得被檢測(cè)的樣品有不同的呈現(xiàn),從而得到更 更可靠的數(shù)據(jù)。
球墨鑄鐵
球墨鑄鐵在BX53M正置顯微鏡不同的觀(guān)察方式下,呈現(xiàn)的是不同的樣貌。在明場(chǎng)的觀(guān)察下是一個(gè)平面紫色花紋圖案。而在微分干涉顯微鏡觀(guān)察技術(shù)下,能把明場(chǎng)所不能檢測(cè)的標(biāo)本有了高度差的檢測(cè),變?yōu)楦〉駹钊S圖像,改善了圖像的襯度。用微分干涉擁有高度差相對(duì)立體的檢測(cè)方式,是金相組織和礦物很理想的檢測(cè)工具。
絹云母
同樣,絹云母在明場(chǎng)觀(guān)察下的依然是平面圖案,平面圖像如果不是特別明顯的缺陷,是難以發(fā)現(xiàn)的。而在使用了偏光觀(guān)察之后,圖像的色斑更加豐富,缺陷就相對(duì)明顯很多。偏光觀(guān)察的顯微鏡技術(shù)原理是它使用了由一組濾光片(檢偏鏡和起偏鏡)產(chǎn)生的偏光,不同樣品會(huì)直接影響顯微鏡反射光的強(qiáng)度,就能辨別出不同的物質(zhì)結(jié)構(gòu),它適用于觀(guān)察樣品的金相組織,例如球墨鑄鐵的生長(zhǎng)形態(tài),礦物、LCD和半導(dǎo)體材料等。
電極切片
紅外光也是BX53M正置顯微鏡一種很重要的觀(guān)察方式,多用于觀(guān)察非破壞性的檢查,如IC芯片和其他能透過(guò)紅外光的硅材料、又或者是玻璃材料制成的電子元器件等。在上圖中通過(guò)紅外光檢查的電極切片,能清楚地看到切片上的小缺陷。
光刻膠殘留
熒光檢測(cè)是很多正置顯微鏡沒(méi)有的檢測(cè)方式。光刻膠殘留在熒光檢測(cè)下,我們只能看到一塊亮斑,而使用了帶暗場(chǎng)的MIX觀(guān)察技術(shù)后得到了截然不同的圖案,它能同時(shí)觀(guān)察光刻膠殘留和IC圖形。這是因?yàn)镸IX技術(shù)通過(guò)專(zhuān)用濾色片激發(fā)塊照明,使標(biāo)本能發(fā)出熒光,特定的激發(fā)塊可用于特定的應(yīng)用。所以熒光觀(guān)察方式適合檢測(cè)半導(dǎo)體晶圓上的異物、光刻膠殘留、以及通過(guò)熒光染料檢測(cè)裂紋等。
半導(dǎo)體晶圓的IC檢測(cè)
IC檢測(cè)很多時(shí)候通過(guò)暗場(chǎng)來(lái)檢測(cè),而暗場(chǎng)主要用于觀(guān)察來(lái)自樣品表面的散射光或衍射光。只有表面不平整的部分才會(huì)反射這種兩種光,因此缺陷部分就會(huì)清晰地顯現(xiàn)出來(lái),甚至是極其細(xì)微的劃痕也能被識(shí)別檢測(cè)出來(lái),暗場(chǎng)是檢測(cè)標(biāo)本上細(xì)微劃痕或缺陷,以及包括晶圓的鏡面標(biāo)本的理想工具。
不同的材料在奧林巴斯正置顯微鏡BX53M的鏡頭下,通過(guò)不同的觀(guān)察方式都呈現(xiàn)了一種難以名狀的美,這些美不僅僅是欣賞作用,更重要的是通過(guò)這些不同觀(guān)察方式呈現(xiàn)的圖像,能清晰準(zhǔn)確地判斷樣品的缺陷以及問(wèn)題。這些美麗的圖像不僅給我們帶來(lái)了視覺(jué)上的震撼之外,也是一個(gè)了解材料微觀(guān)組織結(jié)構(gòu)的重要參考依據(jù)。
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